HF-1100型箱式真空鍍膜機(ji)
真空室：立式前開門。內膜Φ1100×1300，,304不(bu)銹鋼(gang)；外壁通(tong)冷卻(que)水(shui)，內襯不(bu)銹鋼(gang)防污板
真空系統：機械泵+羅茨泵+2臺擴散泵(beng)+維持(chi)泵
極限真空：3.0E-4pa
恢復真空：大氣至4.0E-3pa≤15min
工作架：Φ1040mm帽形工件盤(pan)等(deng)，扇形，行星(xing)
烘烤：采用進口管狀加熱器；最高溫度350℃，可調可控
蒸發源：電阻蒸發源，2只E型電子槍，功率10KW，數量2只
離子源：Φ12cm考夫曼（可選(xuan)），進口
光學膜厚控制：光學專用電源；光學膜厚控制儀；光柵單色儀；波長范圍380-1100nm;反(fan)射(she)/透射
石英晶控：SQC310或IC6，低溫單(dan)探(tan)頭等
電(dian)源：3相，380V，50Hz，約(yue)50KW
下一條: HF-1300型箱式真空鍍膜機
上一條: HF700DL-II型類金剛石沉積設備
免費咨詢